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Plessey从半导体行业沉积设备供应商AIXTRON SE订购了MOCVD反应器

作者:51Touch时间:2018-09-27 来源:华强电子网
[摘要]AIXTRON SE 是半导体行业沉积设备的全球领先供应商。AIX G5+ C 金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 反应器将提升 Plessey 在硅 (GaN-on-Si) 晶圆上制造氮化镓的能力,其目标是应用于下一代microLED。
    北京时间09月27日消息,中国亿万先生网讯,Plessey为GaN-on-Silicon单片microLED显示器创新选择了AIX G5+ C MOCVD工具。Plessey 是屡获殊荣的光电子技术解决方案的领先开发商,宣布已从 AIXTRON SE (FSE: AIXA) 订购了下一个反应器,AIXTRON SE 是半导体行业沉积设备的全球领先供应商。AIX G5+ C 金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 反应器将提升 Plessey 在硅 (GaN-on-Si) 晶圆上制造氮化镓的能力,其目标是应用于下一代microLED。    本文来自:http://www.51touch.com/fixture/news/2018/0927/51569.html

 
  凭借自动盒式到盒式 (C2C) 晶圆传输模块,新的 AIXTRON 反应器将于 2019 年第 1 季度在位于英国普利茅斯的 270,000 平方英尺的 Plessey 制造工厂安装并运行。AIX G5+ C MOCVD 系统具有两个独立的腔室设置选项,可以在封闭的盒式环境下从系统自动装载并移除 8 x 6in 或 5 x 8in GaN-on-Si 晶圆配置。该系统将成为该公司现有金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 反应器的补充,该反应器也由 AIXTRON 供应,可提供 7 x 6in 或 3 x 8in 的人工装载配置。   新反应器的自动化自清洁技术进一步提高了生产率,通过确保每次运行时反应器清洁,有助于提供极低水平的晶圆缺陷。这显著减少了维护的停机时间,需要在配方运行期间和之间与其他反应器一起定期清除残留物。新设备还提供更快的斜坡和冷却以及高的基座卸载温度,以减少配方时间。   AIX G5+ C 反应器将支持 Plessey 广泛的生产路线图,以根据其专有GaN-on-Si 技术提高单片microLED的研发能力。Plessey 的microLED具有极低的功耗、高亮度和极高的像素密度,可在使用传统显示技术(如 LCD 和 OLED)的多个现有应用领域中造成潜在破坏。   Plessey 的使命是成为世界领先的公司,开发用于显示引擎和全场发射microLED显示器的创新照明。这些复杂设备将高密度 RGB 像素阵列与高性能 CMOS 背板相结合,为头戴式显示器和可穿戴电子设备提供高亮度、低功耗和高帧率的图像源,用于增强现实和虚拟现实系统。   AIXTRON 欧洲副总裁 Frank Schulte 博士说:“我们相信 AIX G5+ C将以最佳方式支持 Plessey 的要求,以满足最严格的microLED生产要求。该工具提供更高效的配置,同时满足硅行业在均匀性和颗粒方面最严格的要求。”   Plessey 首席运营官 Mike Snaith解释说:“我们与 AIXTRON 持续和宝贵的合作关系使 Plessey 能够迅速将其单片microLED推向市场。为了帮助我们实现这一目标,我们最新收购的 AIX G5+ C 行星系统以最低的拥有成本将出色的晶圆均匀性和运行性能相结合 - 这对于高效大容量GaN-on-silicon microLED显示器至关重要。”   为解决制造microLED所涉及的各种挑战,包括大容量和具有成本效益的生产能力,Plessey 积极与潜在客户合作,以使用其尖端的生产就绪型microLED技术平台。
 
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